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Bandi di appalto pubblici da fonti ufficiali. Ognuno viene ricontrollato alla fonte prima di consegnare un report.

20 fonti attive su 24
  • Public Contracts Scotlandaggiornata 43 minuti fa
  • DNCP Paraguayaggiornata 71 minuti fa
  • jGrants Japanaggiornata 77 minuti fa
  • BDNS Spainaggiornata 2 ore fa
  • Contracts Finderaggiornata 2 ore fa
  • ITMS21+ Slovakiaaggiornata 3 ore fa
  • Find a Tenderaggiornata 3 ore fa
  • World Bankaggiornata 4 ore fa
  • eTenders South Africaaggiornata 5 ore fa
  • CanadaBuysaggiornata 5 ore fa
  • Vinnova Swedenaggiornata 5 ore fa
  • Innovate UKaggiornata 5 ore fa
  • Find a grant UKaggiornata 5 ore fa
  • DGCPaggiornata 7 ore fa
  • TEDaggiornata 7 ore fa
  • EU Fundingaggiornata 7 ore fa
  • Prozorroaggiornata 7 ore fa
  • SECOP IIaggiornata 9 ore fa
  • Grants.govaggiornata 11 ore fa
  • PNCPaggiornata 13 ore fa
  • Mercado Públicoserve una chiave di accesso
  • Aides-territoiresserve una chiave di accesso
  • K-Startup Koreaserve una chiave di accesso
  • SAM.govserve una chiave di accesso

2 bandi aperti

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  1. Microelectronic machinery and apparatus and microsystemses

    Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

    SpagnaRectorado de la Universitat Politècnica de València

    El presente informe tiene por objeto justificar la necesidad e idoneidad de la contratación del suministro, instalación, puesta en marcha, validación y formación asociada a un sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW), de acuerdo con lo establecido en el artículo 28 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre, de Contratos del Sector Público (LCSP), por la que se transponen al ordenamiento jurídico español las Directivas del Parlamento Europeo y del Consejo 2014/23/UE y 2014/24/UE, de 26 de febrero de 2014, así como en los preceptos concordantes que exigen

    TED bando di origine (si apre in una nuova scheda)Controllato 2 giorni faSave

    Valore

    EUR 465.000

    Scadenza

    Scadenza dell’ente: 10 nov 2026, 23:59 UTC+1. UTC: 10 nov 2026, 22:59 UTC.
  2. Microelectronic machinery and apparatus and microsystemses

    Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

    SpagnaRectorado de la Universitat Politècnica de València

    El equipo se destinará a la Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) MICRONANOFABS, red española de salas blancas de micro y nanofabricación integrada en el Mapa Nacional de ICTS del Ministerio competente en materia de ciencia, de la que forma parte la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la Universitat Politècnica de València (UPV), junto con el Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) y la Central de Tecnología del ISOM (UPM). La instalación se ubicará en la Sala Blanca del edificio 8F del NTC-UPV. El Centro de Tecnología Na

    TED bando di origine (si apre in una nuova scheda)Controllato 2 giorni faSave

    Valore

    EUR 490.000

    Scadenza

    Scadenza dell’ente: 10 nov 2026, 23:59 UTC+1. UTC: 10 nov 2026, 22:59 UTC.

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